Технология СВД: краеугольный камень НИОКР и производства новых материалов

Введение

От лаборатории до линии массового производства оборудование для химического осаждения из газовой фазы (CVD) служит основной платформой для изготовления новых материалов. От чипов в смартфонах до силовых устройств в электромобилях нового поколения, от фотоэлектрических элементов до оптических покрытий — все эти продукты основаны на одной и той же технологии — химическом осаждении из газовой фазы (CVD). Этот процесс отвечает за выращивание функциональных тонких пленок на атомном уровне и является ключевым процессом, позволяющим новым материалам перейти из лаборатории в массовое производство.

01 Что такое технология CVD?

Технология CVD — это процесс, при котором газообразные прекурсоры подаются в реакционную камеру, где они вступают в химические реакции при контакте с нагретой поверхностью подложки, осаждая твердую пленку или покрытие. В отличие от традиционных методов нанесения покрытий, процесс формирования пленки в CVD происходит атом за атомом, что позволяет точно контролировать состав, толщину и структуру пленки. Это не то же самое, что физическое осаждение из газовой фазы (PVD): PVD использует физические методы для переноса материала, в то время как CVD использует химические реакции для генерации материала.

Производственные линии CVD для нанесения тонких пленок на полупроводниковые пластины являются ярким примером крупномасштабного применения CVD.

02 Почему CVD является ключом к исследованиям, разработке и производству новых материалов?

1. Высокая точность

Точность на атомном уровне. CVD может осаждать пленки толщиной всего несколько нанометров, что соответствует строгим требованиям к однородности толщины пленки в полупроводниковых устройствах.

2. Высокая чистота

Сверхвысокая чистота. Возьмем, к примеру, прекурсоры электронного класса: чистота должна достигать диапазона 99,9999%, а контроль примесей напрямую определяет выход годных пластин.

3. Массовое производство

Возможно крупномасштабное производство. Передовые материалы, такие как графен, алмазные пленки, карбид кремния и нитрид галлия, все они используют CVD в качестве основного маршрута изготовления. От 2-дюймовых лабораторных образцов до 12-дюймовых пластин для массового производства, CVD обладает техническими возможностями для преодоления разрыва между исследованиями и разработками и массовым производством. По этой причине CVD широко используется в таких областях, как интегральные схемы, TFT-LCD дисплеи, фотовольтаика, светодиоды и передовые покрытия, что делает ее технологией инфраструктурного уровня для индустриализации новых материалов.

03 Процесс CVD опирается на систему специальных газов

                                                               Инжиниринг систем специальных газов Shenzhen Wofly Technology

Реагентами, используемыми в CVD, являются специальные газы, такие как силан (SiH₄), аммиак (NH₃), закись азота (N₂O) и гексафторэтан (C₂F₆). Чистота газов, стабильность их расхода и контроль давления напрямую определяют качество осаждаемой пленки и безопасность производства. Полная система специальных газов состоит из шкафа для специальных газов (GC), трубопроводов высокой чистоты, клапанов и фитингов, системы обнаружения утечек и системы очистки отходящих газов (скруббер): После регулирования давления и блокировки в шкафу для специальных газов, газы из баллонов подаются к технологическому оборудованию через трубопроводы высокой чистоты; затем отходящие газы реакции обрабатываются скруббером и выбрасываются в соответствии с нормативными стандартами. Поскольку такие газы, как силан, являются легковоспламеняющимися и взрывоопасными, система должна быть оснащена сигнализацией утечки, аварийным отключением и интегрированными системами вытяжной вентиляции.

Шкаф для специальных газов (GC)

Продукция шкафов для специальных газов Shenzhen Wofly Technology

Клапаны и фитинги / Трубопроводы высокой чистоты

Трубопроводы с узлами клапанов Shenzhen Wofly Technology VMB

Очистка отходящих газов (скруббер)

Оборудование для очистки отходящих газов Shenzhen Wofly Technology

Wofly Technology

Предоставление услуг по инжинирингу систем специальных газов для индустрии CVD

Полностью автоматический шкаф для специальных газов (GC) Wofly Technology разработан для безопасной и стабильной подачи специальных газов высокой чистоты.

Основанная в 2011 году, Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. является высокотехнологичным предприятием национального уровня и предприятием «Малый гигант», признанным в рамках программы «Специализированные, утонченные, отличительные и инновационные». Компания имеет национальную квалификацию профессионального подрядчика по монтажу механического и электрического оборудования зданий и специализируется на инжиниринге систем применения газов. Wofly Technology предоставляет комплексные услуги для индустрии, связанной с CVD, начиная от технического консалтинга, общего планирования, проектирования систем, выбора оборудования и сборных компонентов до монтажа на месте и тестирования систем. Сфера деятельности компании охватывает системы трубопроводов для электронных специальных газов, системы подачи газов в лабораториях, централизованные системы подачи газов, системы подачи газов в больших объемах, вторичные трубопроводы для газов высокой чистоты и специальных технологических газов, а также системы транспортировки химикатов и чистой воды.

Инжиниринг систем специальных газов Shenzhen Wofly Technology

Независимо разработанный полностью автоматический шкаф для специальных газов (GC) Wofly Technology имеет ПЛК в качестве основного элемента управления и оснащен системами безопасности, сигнализацией утечки и функциями автоматического отключения; система очистки отходящих газов Scrubber обеспечивает соответствие требованиям при утилизации технологических отходящих газов; а клапаны и фитинги компании под брендами Aofei Ke AFK® и Afklok® соответствуют требованиям для транспортировки сред высокой чистоты. Решения Wofly Technology были внедрены в таких отраслях, как полупроводники, TFT-LCD, фотовольтаика, биофармацевтика и научно-исследовательские институты. Система очистки отходящих газов Scrubber обеспечивает окончательную гарантию соответствия экологическим нормам в процессах CVD.